体设备更新迭代的速度也遵循摩尔定律，大家都是飞奔着往前跑。
好不容易看到一点点优势的光了，如果就此错过了，张汝京感觉这辈子都没办法原谅自己。
他毫不犹豫地主动开了口：“那我去吧，我去把他带过来，让他亲眼看看我们的浸润式光刻机。”
王潇笑容满面：“实在不好意思，又要麻烦张博您奔波了。”
说句实在话，人家这位顾问是正儿八经一个人干了三个人，不，是四个人的活。
又要盯着萧州的芯片厂，又要管韩国的团队，还得去香港亲自看着芯片厂建设，他本人又是世大的总经理。
现在还得替他去游说技术高手。
王老板都觉得应该多给人家分2套别墅，人家要不要是一回事，他们的心意有没有表达出来是另一回事。
于是远在美国的林本坚博士，一大早刚吃过早饭，人还没进公司门呢，就被风尘仆仆的张汝京给拦住了：“burn，我是richard，之前咱们在年会上碰过面，不知道你还记不记得？”
“当然当然。”林博士个性温和，笑着跟他握手，“richard，你今天有什么事吗？”
张汝京满脸严肃：“burn，你必须跟我走，因为有件非常大的事，你必须得亲眼见证。它会影响你、我，乃至整个半导体从业人的命运。”
作者有话说：
[星星眼]早啊！礼拜一了，该上班的上班，该上学的上学[笑哭]
伟大的人无惧平台：你必须得帮我们
办公室里，林本坚听完了张汝京的叙述，露出了惊喜的笑容：“做出来了？太好了！恭喜她，恭喜他们。”
是的，是恭喜iss王，是恭喜他们，而不是恭喜自己。
因为他从来都不认为自己是浸润光刻的开山鼻祖。
严格来讲，浸润光刻不是多新奇的概念。
1984年日立的员工就曾申请过在镜头和光刻胶间加入液体的相关专利。1985年，perk-elr更是申请了镜头浸入水中的专利。
而在1987年，当时就职于ib的他在公开学术会议上，提出的是将这类技术应用于249纳米光刻焦深的方案。
是的，iss王和她的团队自称是看了他的这篇论文，所以才对浸润光刻产生了兴趣，写邮件给他，希望能得到更多的指点。
但林博士更加相信，他的那篇文章最大的意义是起了一个科普的作用，相当于一个先入门的人给后来者做了点儿介绍而已。
所以现在听到后来者居上，既然已经做出了193纳米波长的浸润式光刻机的实验机，他除了为对方高兴之外，剩下的只有“果然，浸润光刻理论是能从纸面走向现实的”。
其余的，没有了，真的没有了。
张汝京正在一口饼干，一口苏打水。
他也是飞机上睡觉，下了飞机就干活的典范。
整整20几个小时，除了飞机上吃了一餐，他粒米未进，滴水未沾。先前赶路，情绪亢奋，还没什么感觉，现在真是饥肠辘辘。
得亏林博士是个善良的人，把自己的加班口粮贡献了出来。
所以张博士才能好不容易咽下饼干之后，好歹有体力说话了：“现在恭喜说的太早了，他们真的只是实验机，连干式193纳米波长的原型机都造不出来的实验机。所以，burn，你必须得跟我走，你得帮他们。”
林本坚愣住了，下意识地反问了一句：“我帮他们？”
张汝京用力点头：“对！这是一项伟大的突破，它的价值丝毫不逊色于紫外线光刻。”
他之所以特地把紫外线光刻拿出来说，是因为在80年代后期，也就是差不多十来年前，蓝色巨人ib乃至全球芯片界，一度卯足了劲儿搞x光光刻的研发。
当时就职于ib华生研究中心的林本坚却提出了不同的看法，认为应该做紫外线光刻。
因为x光的光源难以解决，需要大型粒子加速器提供稳定光源，操作难度系数高，而且很快就会抵达天花板，清晰度没办法继续往上升。
相反的，做紫外线光刻，光源好说，操作简单，提升空间也大。
可他不管怎么向老板申请，甚至主动提出，只要x光项目组的1/10的经费，依然没能获得支持。
这也成为了他最终选择离开ib的原因之一。
而时间过了十多年，光刻机的发展历程证明了，紫外线才是正确的选择，深紫外光刻机先后推出了248纳米、193纳米等波长的技术，适配了半导体规模化生产的需求。
现在行业又开始推进极紫外（euv）光刻研发。
与此同时，曾经风光一时的x光光刻机已经迅速被边缘化。
张汝京眼睛闪闪发亮：“我敢打赌，十年，很可能只需要五年的时间，浸润式光刻机就会向紫外光打败x光一样，成为新的主流。burn，你又要创造历史了！”
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